Hace unos días la empresa neerlandesa Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML), uno de los contados fabricantes de las máquinas litográficas con las que se manufacturan los microcircuitos electrónicos, concluyó la fabricación de su Twinscan EXE:5000, la primera en su tipo y materialización de los últimos avances de la técnica usada por este sector clave de la economía mundial.
ASML desarrolló la Twinscan EXE:5000 por encargo de Intel Corporation, su construcción inició en el año 2018. Luego de ser embarcada en Veldhoven, esta máquina litográfica con dimensiones similares a las de un autobús de doble nivel llegará en los meses próximos hasta las instalaciones que la firma estadounidense tendrá en Hillsboro, en el estado de Ohio de la Unión Americana; es una de las dos factorías que la compañía construye actualmente en el país norteamericano para intentar recuperar algún porcentaje de participación de mercado mundial de la manufactura de los microchips.
Aunque la inyección de recursos para la construcción de estas dos nuevas plantas de Intel Corporation se cristalizó con la promulgación del Acta de Chips y Ciencia a inicios de agosto del 2022, la decisión del gobierno de Washington de apoyar a las compañías estadounidenses del sector de los semiconductores fue tomada desde hace varias administraciones federales, debido a que la manufactura de estos microcircuitos electrónicos en el territorio norteamericano pasó de representar el 37 % de la producción global en la década de los noventa del siglo pasado a sólo el 12 % en el año 2021. En contraposición, en la actualidad se estima que ocho de cada diez microchips se fabrican por Samsung Electronics, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (TSMC) o Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC).
Siendo los microchips componentes clave para muchos de los productos y servicios de las nuevas tecnologías, lo que los convierte en una industria estratégica en la economía mundial, su diseño y manufactura se han convertido en los ejes de una disputa entre la actual hegemonía mundial, los Estados Unidos de América, y la potencia emergente y segunda economía del planeta, la República Popular de China. Ambas naciones se han enfrascado en una lucha tecnológica, directa y sin tregua, que les permita dominar las técnicas fotónicas que posibilitan la fabricación de los circuitos electrónicos en grandes volúmenes y con tamaños microscópicos.
En este escenario precisamente se da el surgimiento de Twinscan EXE:5000, una máquina que utiliza los láseres más potentes y cuya radiación se encuentra en la parte ultravioleta más lejana del espectro electromagnético hasta ahora alcanzado en estos dispositivos. El hecho de que se utilicen láseres con longitudes de onda en la región ultravioleta extrema tiene que ver con su cortedad relativa y la alta energía que portan.
Cual si se tratara de la agudeza de la punta de un lápiz comparada con la de un plumón, la luz láser ultravioleta permite realizar trazos mucho más delgados y precisos que aquellos que podrían hacerse con longitudes de onda más largas, como las de la luz visible o la infrarroja.
Aquí radica precisamente la enorme ventaja tecnológica que deberá entregarle la Twinscan EXE:5000 a Intel Corporation cuando esta máquina litográfica haya superado los muchos meses de prueba, ajuste y hasta experimentación, y se haya puesto a punto para su ingreso a la línea de producción en serie de las futuras generaciones de microchips, que se conocen como de 1.8 nanómetros —un nanómetro es la millonésima parte de un milímetro—, y con ello la empresa estadounidense pueda superar grandemente a los microcircuitos actuales.
Es justamente en el terreno de la investigación científica y del desarrollo de tecnología de vanguardia en el que se libra esta lucha encarnizada por el liderazgo mundial en el sector de los semiconductores, y es aquí en donde México debería comenzar a invertir si quiere insertarse en esta industria en las décadas por venir.
Lo anterior, dicho sin aberraciones.
